Self- and impurity diffusion in intrinsic relaxed silicon-germanium
Julkaistu sarjassa
Research report / Department of Physics, University of JyväskyläPäivämäärä
2004Oppiaine
FysiikkaJulkaisija
University of JyväskyläISBN
978-951-39-3150-6ISSN Hae Julkaisufoorumista
0075-465XJulkaisuun sisältyy osajulkaisuja
- Artikkeli I Laitinen, P., Touboltsev, V., Tyurin, G., & Räisänen, J. (2002). Detection system for depth profiling of radiotracers. Nuclear Instruments and Methods, B 190, 183. DOI: 10.1016/s0168-583x(01)01205-8
- Artikkeli III: Strohm, A., Voss, T., Frank, W., Laitinen, P., & Räisänen, J. (2002). Self-diffusion of 71Ge and 31Si in Si-Ge alloys. Zeitschrift für Metallkunde, 93, 737. DOI: 10.3139/146.020737
- Artikkeli IV: Räisänen, J., Dendooven, P., Laitinen, P., Huikari, J., Nieminen, A., Riihimäki, I., Äystö, J., Strohm, A., Grodon, C., & Frank, W. (2002). Self-Diffusion of 31Si and 71Ge in relaxed Si0.20Ge0.80 layers. Physical review letters, 89, Article 085902. DOI: 10.1103/PhysRevLett.89.085902
- Artikkeli V: Laitinen, P., Riihimäki, I., Räisänen, J., & Collaboration, I. (2003). Arsenic diffusion in relaxed SiGe. Physical Review B, 68, 155209. DOI: 10.1103/PhysRevB.68.155209
Metadata
Näytä kaikki kuvailutiedotKokoelmat
- Väitöskirjat [3599]
Lisenssi
Ellei muuten mainita, aineiston lisenssi on In Copyright