Jyväskylän yliopisto | JYX-julkaisuarkisto

 
Näytä aineisto 

Näytä suppeat kuvailutiedot

Antiferromagnetism and p‐type conductivity of nonstoichiometric nickel oxide thin films

dc.contributor.authorNapari, Mari
dc.contributor.authorHuq, Tahmida N.
dc.contributor.authorMaity, Tuhin
dc.contributor.authorGomersall, Daisy
dc.contributor.authorNiang, Kham M.
dc.contributor.authorBarthel, Armin
dc.contributor.authorThompson, Juliet E.
dc.contributor.authorKinnunen, Sami
dc.contributor.authorArstila, Kai
dc.contributor.authorSajavaara, Timo
dc.contributor.authorHoye, Robert L. Z.
dc.contributor.authorFlewitt, Andrew J.
dc.contributor.authorMacManus-Driscoll, Judith L.
dc.date.accessioned2020-04-01T03:59:28Z
dc.date.available2020-04-01T03:59:28Z
dc.date.issued2020
dc.identifier.citationNapari, M., Huq, T. N., Maity, T., Gomersall, D., Niang, K. M., Barthel, A., Thompson, J. E., Kinnunen, S., Arstila, K., Sajavaara, T., Hoye, R. L. Z., Flewitt, A. J., & MacManus-Driscoll, J. L. (2020). Antiferromagnetism and p‐type conductivity of nonstoichiometric nickel oxide thin films. <i>InfoMat</i>, <i>2</i>(4), 769-774. <a href="https://doi.org/10.1002/inf2.12076" target="_blank">https://doi.org/10.1002/inf2.12076</a>
dc.identifier.otherCONVID_34408538
dc.identifier.urihttps://jyx.jyu.fi/handle/123456789/68402
dc.format.mimetypeapplication/pdf
dc.languageeng
dc.language.isoeng
dc.publisherJohn Wiley & Sons
dc.relation.ispartofseriesInfoMat
dc.rightsCC BY 4.0
dc.subject.otheratomic layer deposition
dc.subject.otherchemical vapor deposition
dc.subject.othernickel oxide
dc.subject.othersolution deposition
dc.subject.otherthin films
dc.titleAntiferromagnetism and p‐type conductivity of nonstoichiometric nickel oxide thin films
dc.typearticle
dc.identifier.urnURN:NBN:fi:jyu-202004012616
dc.contributor.laitosFysiikan laitosfi
dc.contributor.laitosDepartment of Physicsen
dc.contributor.oppiaineYdin- ja kiihdytinfysiikan huippuyksikköfi
dc.contributor.oppiaineFysiikkafi
dc.contributor.oppiaineKiihdytinlaboratoriofi
dc.contributor.oppiaineCentre of Excellence in Nuclear and Accelerator Based Physicsen
dc.contributor.oppiainePhysicsen
dc.contributor.oppiaineAccelerator Laboratoryen
dc.type.urihttp://purl.org/eprint/type/JournalArticle
dc.type.coarhttp://purl.org/coar/resource_type/c_2df8fbb1
dc.description.reviewstatuspeerReviewed
dc.format.pagerange769-774
dc.relation.issn2567-3165
dc.relation.numberinseries4
dc.relation.volume2
dc.type.versionpublishedVersion
dc.rights.copyright© 2020 The Authors. InfoMat published by John Wiley & Sons Australia, Ltd on behalf of UESTC.
dc.rights.accesslevelopenAccessfi
dc.subject.ysoohutkalvot
dc.subject.ysokemialliset reaktiot
dc.subject.ysokemialliset ilmiöt
dc.subject.ysoatomikerroskasvatus
dc.format.contentfulltext
jyx.subject.urihttp://www.yso.fi/onto/yso/p16644
jyx.subject.urihttp://www.yso.fi/onto/yso/p3658
jyx.subject.urihttp://www.yso.fi/onto/yso/p3656
jyx.subject.urihttp://www.yso.fi/onto/yso/p27468
dc.rights.urlhttps://creativecommons.org/licenses/by/4.0/
dc.relation.doi10.1002/inf2.12076
jyx.fundinginformationM.N. and J.L. M.-D. acknowledge funding from the EPSRC grant EP/ P027032/1. T.N.H. acknowledges funding from the EPSRC Centre for Doctoral Training in Graphene Technology (No. EP/L0160871) and Aziz Foundation. T.M. and J.L.M.-D. acknowledge funding from EU grant H2020MSCA-IF-2016 745886 MuStMAM and Isaac Newton Trust (RG96474). R.L.Z.H. acknowledges funding from the Royal Academy of Engineering via the Research Fellowship scheme (No.: RF/201718/17101), as well as support from Magdalene College Cambridge.
dc.type.okmA1


Aineistoon kuuluvat tiedostot

Thumbnail
Nimi:
Napari_et_al-2020-InfoMat.pdf
Koko:
1.024Mb
Tiedostomuoto:
PDF
Kuvaus:
Publisher's PDF
Katso/Avaa

Aineisto kuuluu seuraaviin kokoelmiin

Näytä suppeat kuvailutiedot

CC BY 4.0
Ellei muuten mainita, aineiston lisenssi on CC BY 4.0
Tietosuojailmoitus

Saavutettavuusseloste

Ellei toisin mainittu, julkisesti saatavilla olevia JYX-metatietoja (poislukien tiivistelmät) saa vapaasti uudelleenkäyttää CC0-lisenssillä.