Ohutkalvojen tunnistaminen atomivoimamikroskoopilla määritetyn kimmokertoimen avulla
Tässä työssä tutkin aiemmin vähän tutkittua menetelmää tutkia monikerroksisia ohutkalvoja. Menetelmä perustuu AFM:n avulla näytteestä mitattuun voimakäyrätietoon. Mittaukset koostuivat näytteiden valmistamisesta, sekä HIM:llä ja AFM:llä tapahtuneista kuvauksista.
Työssäni tulen osoittamaan, että ohutkalvoista on mahdollista erottaa eri materiaalikerroksia
menetelmän avulla. Menetelmässä on kuitenkin useita rajoituksia, jotka estävät menetelmän
käyttöönoton käytännön sovelluksissa. In this work, I investigate a previously little studied method to study multilayer
thin films. The method is based on force curve data measured from a sample using AFM.
The measurements consisted of sample preparation, and imaging with HIM and AFM.
In my work, I will show that it is possible to distinguish different material layers in thin
films using this method. However, the method has several limitations that prevent its use in
practical applications.
Asiasanat
Metadata
Näytä kaikki kuvailutiedotKokoelmat
- Pro gradu -tutkielmat [29544]
Lisenssi
Samankaltainen aineisto
Näytetään aineistoja, joilla on samankaltainen nimeke tai asiasanat.
-
Mechanical and optical properties of as-grown and thermally annealed titanium dioxide from titanium tetrachloride and water by atomic layer deposition
Ylivaara, Oili M.E.; Langner, Andreas; Liu, Xuwen; Schneider, Dieter; Julin, Jaakko; Arstila, Kai; Sintonen, Sakari; Ali, Saima; Lipsanen, Harri; Sajavaara, Timo; Hannula, Simo-Pekka; Puurunen, Riikka L. (Elsevier, 2021)The use of thin-films made by atomic layer deposition (ALD) is rapidly growing in the field of optical sensing. ALD TiO2 has been widely characterized for its physical and optical properties, but systematic information ... -
Röntgenfluoresenssimittausten optimointi ohutkalvojen karakterisointiin
Kääriäinen, Jussi (2022)XRF-mittausten soveltuvuutta ja röntgenlähteen kiihdytysjännitteen sekä virran vaikutusta tutkittiin ohutkalvojen karakterisointiin. Käytössä oli 4 W röntgenlähde, jonka maksimi kiihdytysjännite oli 30 kV. Kuuden eripaksuisen ... -
Thermomechanical properties of aluminum oxide thin films made by atomic layer deposition
Ylivaara, Oili M. E.; Langner, Andreas; Ek, Satu; Malm, Jari; Julin, Jaakko; Laitinen, Mikko; Ali, Saima; Sintonen, Sakari; Lipsanen, Harri; Sajavaara, Timo; Puurunen, Riikka L. (American Vacuum Society, 2022)In microelectromechanical system devices, thin films experience thermal processing at temperatures some cases exceeding the growth or deposition temperature of the film. In the case of the thin film grown by atomic layer ... -
Comparison of mechanical properties and composition of magnetron sputter and plasma enhanced atomic layer deposition aluminum nitride films
Sippola, Perttu; Perros, Alexander Pyymaki; Ylivaara, Oili M. E.; Ronkainen, Helena; Julin, Jaakko; Liu, Xuwen; Sajavaara, Timo; Etula, Jarkko; Lipsanen, Harri; Puurunen, Riikka L. (AIP Publishing LLC, 2018)A comparative study of mechanical properties and elemental and structural composition was made for aluminum nitride thin films deposited with reactive magnetron sputtering and plasma enhanced atomic layer deposition (PEALD). ... -
Hiukkasherätteinen röntgen-emissio ohutkalvojen analysoinnissa
Käyhkö, Marko (2013)Tässä tutkielmassa tavoitteena oli analysoida ohutkalvoja hiukkasherätteisellä röntgen-emissiolla (PIXE) käyttäen apuna takaisinsirontaa. Erityisesti tavoitteena oli selvittää pystytäänkö PIXEllä saamaan lisätietoa ...
Ellei toisin mainittu, julkisesti saatavilla olevia JYX-metatietoja (poislukien tiivistelmät) saa vapaasti uudelleenkäyttää CC0-lisenssillä.