ECR-ionilähteen ionisaatiotehokkuus ja ionisaatioprosessiin vaikuttavat tekijät
Authors
Date
2002Access restrictions
This material has a restricted access due to copyright reasons. It can be read at the workstation at Jyväskylä University Library reserved for the use of archival materials: https://kirjasto.jyu.fi/collections/archival-workstation.
Copyright
This publication is copyrighted. You may download, display and print it for Your own personal use. Commercial use is prohibited.
Related items
Showing items with similar title or keywords.
-
ECR-ionilähteen magneettikentän lämpötilariippuvuus
Frondelius, Petri (2005) -
ECR-ionilähteen tuottaman röntgensäteilyn simulointi
Ropponen, Janne (2008) -
Kineettisten epästabiilisuuksien vaikutus ECR-ionilähteen plasmapotentiaaliin
Huovila, Juuso (2023)Tämä pro gradu -tutkielma käsittelee kineettisten plasmaepästabiilisuuksien kytköstä elektronisyklotroniresonanssi-ionilähteiden (ECRIS) plasmapotentiaaliin. Plasmapotentiaalin muutoksia tutkittiin mittaamalla ionilähteen ... -
ECR-ionilähteen ionisuihkun laadun mittaaminen
Suominen, Pekka (2002) -
JYFL 6.4 GHz ECR-ionilähteen magneettikentän muutostyöt
Moisio, Mikko (2002)